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喷氦法是常用,方便的检漏方法。检漏时,用连接在装有氦气的气瓶上的喷向怀疑有漏泄的部位喷氦气,如果有氦气从漏孔中流入压力容器装置,则装置内的氦分压就会上升,氦质谱检漏仪上就会显示有泄漏率。是否合格要看标准漏率值是定在多少,超过标准漏率值的可视为不合格。氦质谱检漏法是利用氦质谱检漏仪的氦分压力测量原理,实现被检件的氦泄漏量测量。当被检件密封面上存在漏孔时,示漏气体氦气及其它成分的气体均会从漏孔泄出,泄漏出来的气体进入氦质谱检漏仪后,由于氦质谱检漏仪的选择性识别能力,仅给出气体中的氦气分压力信号值。在获得氦气信号值的基础上,通过标准漏孔比对的方法就可以获得漏孔对氦泄漏量。为什么要检漏?泄漏和密封相对应很多情况下,我们需要密封住一定的空间,防止气体或液体在压力的作用下,流进或流出这个空间。如真空设备(真空镀膜机,液晶注入机,PVD,半导体外延等等),需要在真空条件下工作,要求在工作时,空气不能漏进工作腔体,否则生产不能进行,或者产生次品,浪费人力物力。
背压法的优点是检测灵敏度高,能实现小型密封容器产品的泄漏检测,可以进行批量化检测。背压法的缺点是不能进行大型密封容器的漏,否则由于密封腔体容积太大,锂电实验室设备,导致加压时间太长。此外,每个测量漏率都对应两个等效标准漏率,在细检完成后还需要采用其它方法进行粗检,排除大漏的可能。按照收集氦气方式的不同,又可以将正压法分为正压吸法和正压累积法。其中正压吸法采用检漏仪吸对被检产品外表面进行扫描探查,可以实现漏孔的; 正压累积法采用有一定密闭功能的氦罩将被检产品全部罩起来,采用检漏仪吸测量一定时间段前后的氦罩内氦气浓度变化量,实现被检产品总漏率的测量。检漏的基本任务靠采取一些标准检漏技术来完成,而采用哪种技术要根据被检件的结构、检漏的经济效益及检漏系统的性质来决定。近年来由于电子工业的发展,空间探索活动的增加,检漏技术得到了快速发展,它的重要标志是将以氦为示踪气体的氦质谱检漏仪已快速地进入了各个适用的领域。
泄漏的检查,存在着各种各样的方式,其中之一便是使用氦质谱检漏仪的检查方式。利用氦气作为示踪气体,来对各种容器的泄漏、微漏和渗漏(包括材料本身的)进行检测。使用氦气进行检漏是考虑到氦气具有以下一些优点:(不用氢气,因为氢气有可燃可爆的危险性)氦质谱检漏仪是根据质谱分析原理,以氦为示踪气体,对真空设备和密封器件的漏隙进行定位或定量、定性测量的完整系统。我们知道气体在电子的轰击下会产生带电粒子,带电粒子在电场的作用下获得能量做加速动力,而在磁场的作用下将做圆周运动,而具有不同质荷比的离子其运动半径不同。有两种方式可以检测出泄漏:1. 示踪气体 A 放在容器里面,处于正压,然后用仪器去检测,容器周边是否有气体 A,如果容器外有气体 A,则容器有漏。用这种方式能检测出漏点,并能大概判断泄漏的程度。这种检漏方式叫 Sniffer 检漏或正压检漏。2. 示踪气体 A 喷在容器外面,用仪器去检测容器里面是否有气体 A。这种方式能检测出漏点,并能测知漏率。这种检漏方式叫真空检漏。