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氦质谱检漏仪的基本原理及主要组成部分：氦质谱检漏仪的性能、特性好坏取决于质谱分析室。质谱分析室的工作原理是对离子源气体进行电离，电离出来的正离子经过电场加速聚焦通过缝隙进入均匀磁场，离子束在磁场力的作用下，旋转180o或90o按一定轨迹到达收集极，此种形式称之为磁性偏转分析形式。然后，经小电流放大器、微处理器，控制器等线路处理直至液晶屏显示出读数的大小。按照施漏气体方法的不同，又可以将真空法分为真空喷吹法和真空氦罩法。其中真空喷吹法采用喷的方式向被检产品外表面喷吹氦气，可以实现漏孔的; 真空氦罩法采用有一定密闭功能的氦罩将被检产品全部罩起来，在罩内充满一定浓度的氦气，可以实现被检产品总漏率的测量。氦质谱检漏仪是根据质谱分析原理，以氦为示踪气体，对真空设备和密封器件的漏隙进行定位或定量、定性测量的完整系统。我们知道气体在电子的轰击下会产生带电粒子，带电粒子在电场的作用下获得能量做加速动力，而在磁场的作用下将做圆周运动，检漏仪，而具有不同质荷比的离子其运动半径不同。

按照收集氦气方式的不同，又可以将正压法分为正压吸法和正压累积法。其中正压吸法采用检漏仪吸对被检产品外表面进行扫描探查，可以实现漏孔的; 正压累积法采用有一定密闭功能的氦罩将被检产品全部罩起来，采用检漏仪吸测量一定时间段前后的氦罩内氦气浓度变化量，实现被检产品总漏率的测量。背压法氦质谱检漏：采用背压法检漏时，首先将被检产品置于高压的氦气室中，浸泡数小时或数天，如果被检产品表面有漏孔，汽车检漏仪检漏仪，氦气便通过漏孔压入被检产品内部密封腔中，使内部密封腔中氦分压力上升。然后取出被检产品，将表面的残余氦气吹除后再将被检产品放入与检漏仪相连的真空容器内，被检产品内部密封腔内的氦气会通过漏孔泄漏到真空容器，再进入氦质谱检漏仪，从而实现被检产品总漏率测量。检漏仪给出的漏率值为测量漏率，需要通过换算公式计算出被检产品的等效标准漏率。氦质谱检漏法是利用氦质谱检漏仪的氦分压力测量原理，实现被检件的氦泄漏量测量。当被检件密封面上存在漏孔时，示漏气体氦气及其它成分的气体均会从漏孔泄出，泄漏出来的气体进入氦质谱检漏仪后，检漏仪公司检漏仪，由于氦质谱检漏仪的选择性识别能力，仅给出气体中的氦气分压力信号值。在获得氦气信号值的基础上，通过标准漏孔比对的方法就可以获得漏孔对氦泄漏量。

喷氦法是常用，方便的检漏方法。检漏时，用连接在装有氦气的气瓶上的喷向怀疑有漏泄的部位喷氦气，如果有氦气从漏孔中流入压力容器装置，则装置内的氦分压就会上升，氦质谱检漏仪上就会显示有泄漏率。是否合格要看标准漏率值是定在多少，超过标准漏率值的可视为不合格。氦质谱检漏法是利用氦质谱检漏仪的氦分压力测量原理，实现被检件的氦泄漏量测量。当被检件密封面上存在漏孔时，示漏气体氦气及其它成分的气体均会从漏孔泄出，泄漏出来的气体进入氦质谱检漏仪后，由于氦质谱检漏仪的选择性识别能力，仅给出气体中的氦气分压力信号值。在获得氦气信号值的基础上，通过标准漏孔比对的方法就可以获得漏孔对氦泄漏量。为什么要检漏？泄漏和密封相对应很多情况下，我们需要密封住一定的空间，防止气体或液体在压力的作用下，流进或流出这个空间。如真空设备（真空镀膜机，液晶注入机，PVD，半导体外延等等），需要在真空条件下工作，要求在工作时，空气不能漏进工作腔体，否则生产不能进行，或者产生次品，浪费人力物力。